半导体器件
所属分类： 行业应用
发布时间：2026-03-30
|
|
|
 DWB320低温泵应用于ITO导电膜生产线 |
|
微电子行业使用的DZB400低温泵
IG250FX及IG320FX低温泵应用于离子注入机
DWB250与分子泵组合应用于ITO导电膜镀膜线上在半导体器件的制造流程中，从薄膜沉积、刻蚀到掺杂改性，每一步都对真空环境与洁净度有着严苛要求。低温泵作为获得清洁高真空的核心设备，在关键工艺环节发挥着不可替代的作用。
DZB400低温泵在微电子行业的典型应用。该泵被集成于物理气相沉积（PVD）或刻蚀设备中，通过高效捕获水汽及工艺副产物，为晶圆加工提供无油、高洁净的超高真空环境，从而精确保障薄膜生长的致密性与刻蚀形貌的均匀性，提升器件良率。
IG250低温泵在离子注入机上的专项应用。针对离子注入工艺中大量氢气、氮气等气体负荷，该泵可实现高抽速、大容量的稳定排气，确保束线腔体长期维持动态高真空，精确控制离子束传输的纯净度，最终实现掺杂深度与浓度的精准可控，满足先进器件制造需求。
在半导体及平板显示领域，尤其是ITO（氧化铟锡）导电膜的生产中，水汽是影响薄膜导电率和透光率的关键因素。针对该工艺对高真空、高抽速的严苛要求，水汽泵及其组合方案得到广泛应用。
DWB320水汽泵应用于ITO导电膜生产线。该泵专为高水汽负荷工艺设计，可快速抽除基片脱气及溅射过程中释放的大量水汽，为ITO薄膜沉积提供稳定的洁净真空环境，有效降低膜层电阻率，提升膜层均匀性与附着力。
DWB250水汽泵与分子泵组合应用于ITO导电膜镀膜线。该组合方案充分发挥水汽泵对水汽的高抽速优势和分子泵对多数工艺气体的高效排气能力，实现镀膜腔体内全气体组分的快速平衡，显著缩短生产节拍，保障大规模连续镀膜中ITO薄膜的光电性能一致性。
Contact Us
联系我们
关注公众号